中國臺(tái)灣高檢署偵辦臺(tái)積電2nm核心關(guān)鍵技術(shù)竊密案，查出前工程師陳力銘跳槽日商TEL公司后，為得知「蝕刻機(jī)臺(tái)」量產(chǎn)測(cè)試數(shù)據(jù)，買通時(shí)任工程師吳秉毅、戈一平竊取參數(shù)配方，去年依違反國安法起訴名3名工程師，分別求處重刑；檢方偵辦期間，臺(tái)積電另名陳姓員工竊取核心技術(shù)給陳力銘，且TEL盧姓員工也有湮滅證據(jù)，今對(duì)3人及TEL追加起訴。

起訴指出，陳力銘偵查中坦承犯行，主動(dòng)供出陳姓共犯，讓檢方順利查獲陳男，因此求處7年徒刑，如法院認(rèn)為符合國安法減輕其刑規(guī)定，建請(qǐng)依法減刑。陳姓員工犯后態(tài)度欠佳，求處有期徒刑8年8月。

盧姓員工知悉被告陳力銘遭臺(tái)積公司發(fā)覺犯行后，為圖卸責(zé)，刪除陳力銘上傳的相關(guān)檔案，有妨害刑事案件調(diào)查的行為，且犯后否認(rèn)犯案，求處1年徒刑。東京威力公司于本案查證過程中，均依檢察官要求提供相關(guān)事證，配合調(diào)查，對(duì)厘清案情尚有助益，求處罰金2500萬元。

高檢署指出，檢察官在偵辦期間，為厘清TEL是否符合國安法第8條第7項(xiàng)所稱「盡力為防止行為」的要件，查發(fā)覺該公司于云端硬碟內(nèi)，尚存有臺(tái)積國家核心關(guān)鍵技術(shù)項(xiàng)「項(xiàng)次19」，也就是「14nm以下制程之IC制造技術(shù)及其關(guān)鍵氣體、化學(xué)品及設(shè)備技術(shù)」等營業(yè)秘密資料，清查是陳姓員工所竊取。

高檢署去年11月10日，指揮調(diào)查局新竹市調(diào)查站，前往云林、臺(tái)南搜索陳姓員工住居所，向法院聲請(qǐng)羈押禁見獲準(zhǔn)。